激光先进制造光场调控技术与器件相关10项专利技术
项目编号：Z20250193
挂牌价格
525.00 万元
标的类型
技术转让
点击数
0
| 信息披露起始日期 | 2025-08-20 |
|---|---|
| 信息披露截止日期 | 2025-09-03 |
| 技术服务机构 | 机构名称：武汉华工大学科技园发展有限公司 | |
|---|---|---|
| 项目经办人：何磊 | 联系方式：18971451863 | |
| 交易机构 | 交易机构部门：交易部 | |
|---|---|---|
| 交易机构业务负责人：朱思聪 | 交易机构联系方式：15900572944 | |
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标的基本情况
项目名称 激光先进制造光场调控技术与器件相关10项专利技术 项目编号 Z20250193 项目类型 技术转让 交易专板 挂牌起始日 2025-08-20 挂牌截止日 2025-09-03 是否为技术成果组合 是 技术成果数量 10 标的名称 激光先进制造光场调控技术与器件相关10项专利技术 技术领域 电子信息;先进制造 标的权证类型 其他
专利权、专利申请权权证编号 序号 名称 权证编号 申请日 授权日 失效日 1 一种激光振镜扫描装置 CN202210189911.8 2022-02-28 2023-04-11 2042-02-28 2 一种单镜环形光斑光学系统 CN202210070947.4 2022-01-21 2023-03-28 2042-01-21 3 一种自由曲面镜环形光斑光学系统 CN202210070956.3 2022-01-21 2023-03-31 2042-01-21 4 一种激光扫描光学系统 CN202111665722.5 2021-12-31 2023-03-10 2041-12-31 5 一种激光脉冲沉积系统及加工方法 CN202110653625.8 2021-06-11 2022-10-14 2041-06-11 6 一种光束整形的光学系统 CN202011623708.4 2020-12-31 2024-07-02 2040-12-31 7 一种生成类平顶圆光斑的光学系统 CN202011644250.0 2020-12-31 2024-07-02 2040-12-31 8 一种输出组合环形光斑的光学系统 CN202010773928.9 2020-08-04 2021-11-19 2040-08-04 9 一种全反射式的光内送材激光加工头 CN202311782893.5 2023-12-22 10 一种光内送材激光加工头 CN202311783011.7 2023-12-22 获得资助情况
（国家计划课题等）[1] 国家重点研发计划课题《激光熔覆喷头光路及流道优化设计、仿真与制造》（2016YFB1100302），项目执行期2016.07~2019.12 [2] 湖北省科技重大专项《基于光场调控的激光精密微细制造装备研发及应用示范》（2020AAA003），项目执行期2020.07~2023.06 项目阶段 试生产 技术成熟度（TRL） TRL5 分系统的可用性显著提高。部件集成已考虑到现实因素,在模拟环境中得到验证。 样品/样机 有 是否有试用报告 否 项目简介 激光先进制造光场调控技术与器件，该成果包含两项核心技术：
基于 DOE 的 2.5 曲面玻璃激光倒角隐切技术，可一次性加工 2.5G 曲面玻璃，替代传统 CNC，解决加工慢、崩边严重问题，效率提升 50%+，崩边率＜5%。
基于反射式自由曲面的高功率激光光束整形系统，适配 6-50kW 激光，能生成多种均匀光斑，填补国内空白，打破德国企业垄断，光斑均匀性≥85%，四焦点均匀性≥96%。
成果通过产学研合作研发，核心器件国产化降本 30%-50%，已获相关企业订单，预计 3 年带动激光装备产值超 10 亿元，应用于 3C 电子、新能源等领域，拥有 10 项专利，意向合作方式包括专利许可、转让等。
技术效果与指标 一、技术效果 1.效率与精度：曲面玻璃加工效率提升 50% 以上，崩边率＜5%；光斑均匀性≥85%，四焦点均匀性≥96%。 2.成本与市场：核心器件国产化降本 30%-50%，打破德国垄断；预计 3 年带动激光装备产值超 10 亿元，相关产品市占率≥60%。 二、技术指标 1.基于 DOE 的 2.5 曲面玻璃激光倒角隐切技术：DOE 适用波长 532-1064nm，覆盖波段宽于国外同类；光刻阶数 16 阶，高于国内常规；调控焦点数量 1-200 个，多于国外相关技术；焦点位置准确度≥90%，优于国内同类；能量比例一致性≥90%，优于国外多焦点技术；可实现 2.5G 曲面玻璃一次性倒角隐切，为国内外现有技术所不能及。 2.基于反射式自由曲面的高功率激光光束整形系统：承受激光功率 6-50Kw，高于传统透射式元件；长条形 / 矩形光斑均匀性≥85%，领先国内外同类；点环光斑能量比 0%:100%~100%:0% 连续可调，优于国外同类固定比例产品；四焦点能量均匀性≥96%，高于国内外多焦点技术；焦点间距调节范围 1-10mm，最小间距小于国外同类；采用反射式自由曲面 + 三维建模算法，属国际独创，优于国外透射式或固定曲面设计 技术推广及应用前景效益（风险和效益） 一、效益 1.核心器件国产化降本 30%-50%；短期 3 年带动激光装备产值超 10 亿元，DOE 市场 3000 万元 +，光束整形系统新增产值 1000 万元；中长期华工激光市占率提升至 60%-80%，项目技术市占率≥80%。 2.市场效益：打破德国企业垄断，替代传统 CNC 工艺，降低进口依赖，拓展 3C 电子、新能源等多领域市场。 产业效益：推动激光产业链升级，促进产学研协同，提升国际竞争力。 二、风险 1.市场推广需突破传统加工习惯和进口依赖，存在接受度不确定性。 2.规模化量产中需维持精度和工艺稳定性，质量控制有挑战。 3.面临国外同类技术迭代的竞争冲击。 技术团队结构 技术团队名称 激光先进制造光学系统 技术团队人数 10-50人 技术团队简介 激光先进制造光学系统团队传承于华中工学院激光教研组、华中理工大学激光技术与工程研究院，是激光加工国家工程研究中心的核心支撑力量。经过多年的发展，团队已经形成了一支由激光光源、光场调控和激光先进制造技术等研究方向的高级研究人员组成的科研与教学队伍。团队现有教授4人，副教授4人（其中国家级高层次人才2人），在读博士、硕士研究生85余人。在全体导师的悉心培养下，团队研究生就业率100%，累计向国家输送硕士、博士毕业生近110人。大部分毕业生进入中国船舶、航天科技、航天科工等国防军工单位，华为、长江存储，以及华工激光、锐科激光、帝尔激光、逸飞激光等武汉光谷激光公司，服务激光产业高质量发展，助力中国光谷走向世界光谷。 技术负责人姓名 秦应雄 技术负责人联系方式 027-87541774 技术团队负责人(附简历) 秦应雄，华中科技大学激光加工国家工程研究中心教授、博导，华中卓越学者晨星岗，激光技术系主任，武汉激光学会秘书长。主要从事新型激光光源、激光光场调控、激光先进制造技术与装备等领域的研究与开发，作为项目负责人承担国家重点研发计划课题、国家自然科学基金、湖北省重大科技专项、、重大校企合作等科研项目20余项，作为核心骨干参与完成国家十五攻关计划、十一五支撑计划、湖北省科技攻关项目等重大项目10余项，成功研制了2kW、3kW射频板条CO2激光器，并进行了半导体泵浦稀有气体激光器等新型光源的探索研究。在激光光场调控理论、激光先进制造光学系统研发等方面做了较为系统深入的工作，攻克了激光加工光学系统的光场匀化、动态调变、高功率激光镜组研制等多个关键技术，研发的新型光学系统在激光切割、焊接、表面改性、增材制造等系统中获得了应用，提升激光加工的质量和效率。近年来，围绕高折射率半导体内部复杂三维光场调控的基础理论和调控方法、半导体材料激光隐形切割、精细制孔、三维微纳制造等应用开展了有特色的研究工作。获得教育部科技进步一等奖1项，湖北省科技进步二等奖3项，获得2009中国光学重要成果奖1项。获得授权发明专利30余项，以第一作者或通讯作者在OL、OE、AO，JOSA A，光学学报、中国激光、中国机械工程等刊物发表论文30余篇，并担任OE、AO、OLT、中国激光等多种刊物的审稿人。 （1）2004-9至2008-6，华中科技大学，光电学院物理电子学专业博士，导师：李正佳，唐霞辉 （2）2000-9至2003-6，华中科技大学，激光研究院物理电子学专业硕士，导师：郑启光 （3）1996-9至2000-6 华中科技大学，材料学院金属材料及热处理专业本科，导师：张乐福 法律意见 无 重要信息披露 审计报告和评估报告中的保留意见、重要揭示、特别事项说明中涉及交易的提示提醒等内容 无 是否为职务发明创造 是 是否存在共有情况 是 共有权人:
湖北光谷实验室其他披露内容 一种全反射式的光内送材激光加工头、一种光内送材激光加工头，2项专利技术，专利权利人为华中科技大学和湖北光谷实验室，其专利转让所得为华中科技大学、湖北光谷实验室各占比50%权益。 -
转让方简况
转让方类型 法人 基本情况 法人名称 华中科技大学 注册地(地址) 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号 注册资本(万元) 125049.000000 企业类型 其他组织机构 交易行为批准情况 批准单位名称:华中科技大学光学与电子信息学院、湖北光谷实验室 批准文件:华中科技大学光学与电子信息学院、湖北光谷实验室成果处置决议 转让方类型 法人 基本情况 法人名称 湖北光谷实验室 注册地(地址) 武汉市洪山区珞喻路1037号华中科技大学光电信息大楼 注册资本(万元) 3000.000000 企业类型 其他组织机构 交易行为批准情况 批准单位名称:华中科技大学光学与电子信息学院、湖北光谷实验室 批准文件:华中科技大学光学与电子信息学院、湖北光谷实验实验室成果处置决议 -
交易条件与受让方资格条件
交易类型 转让 转让交易条件 交易金额 交易入门费/交易底价（万元） 525.00 是否包含产品销售分成 否 结算方式 场外结算 价款支付方式 分期付款 付款要求 面议
与交易相关的其他条件 面议
受让方资格条件 1、意向受让方应为依法设立并有效存续的境内企业法人、其他经济组织或具有完全民事行为能力的自然人。 2、意向受让方须财务状况良好、有信誉、有足够的支付能力。 3、接受联合方式举牌受让，不接受委托（含隐名委托）、信托举牌受让。 4、 意向受让方应符合国家法律、法规规定的其他条件。
保证金事项 是否交纳保证金 否 -
挂牌信息
信息发布公告期（工作日） 10 信息披露期满后，如未征集到意向受让方 信息披露终结 信息发布期满，如征集到两个及以上符合条件的意向受让方组织交易方式 在线竞价 会同转让方审查意向方资格 否 -
转让方承诺
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